Informace o projektu
Realizace laboratorního vzoru zařízení pro měření drsnosti povrchu metodou holografické interferometrie
- Kód projektu
- GA101/01/1104
- Období řešení
- 1/2001 - 1/2003
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Standardní projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
- Spolupracující organizace
-
Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
- Odpovědná osoba Ing. Josef Lazar , Dr.
- Odpovědná osoba prof. RNDr. Miloslav Ohlídal, CSc.
Podstatou navrhovaného projektu je realizace laboratorního vzoru původního zařízení umožňujícího měřit nedestruktivně a bez apriorních předpokladů o studovaném povrchu jeho drsnost v rozsahu desítek nanometrů až desítek mikrometrů s vysokým stupněm obsah u získané informace (lze určit prakticky všechny významné charakteristiky mikrogeometrie povrchu), a to s možností obdržet výsledky s malým časovým odstupem od měření. Navrhované zařízení je laserový interferenční holografický mikroskop originální konstr ukce s laserovým světelným zdrojem o laditelné vlnové délce (laser INN0VA Spectrum 70 a polovodičový laser, jehož verze upravená pro tento účel bude realizována na pracovišti druhého navrhovatele). Ve výstupní rovině tohoto mikroskopu vzniká obrazový hol ogram povrchu, který je přes mikroobjektiv snímán digitální kamerou. Tato procedura je provedena postupně pro dvě volené vlnové délky. Rekonstrukce superponovaných hologramů se provádí v připojeném počítači. Charakteristiky drsnosti povrchu se určují z t
Publikace
Počet publikací: 16
2005
-
Digital two-wavelength holographic interference microscopy for surface roughness measurement
Proceedings of SPIE 5945, 14th Slovak-Czech-Polish Optical Conference on Wave and Quantum Aspects of Contemporary Optics, rok: 2005
-
Optical characterization of double layers containing epitaxial ZnSe and ZnTe films
Journal of Modern Optics, rok: 2005, ročník: 52, vydání: 4
2004
-
Atomic Force Microscopy Analysis of Statistical Roughness of GaAs Surfaces Originated by Thermal Oxidation
Microchimica Acta, rok: 2004, ročník: 147, vydání: 3
-
Complete Characterization of Rough Polymorphous Silicon Films by Atomic Force Microscopy and the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Reflectometry
Thin Solid Films, rok: 2004, ročník: 455-456, vydání: 1
-
Characterization of thin oxide films on GaAs substrates by optical methods and atomic force microscopy
Surface and Interface Analysis, rok: 2004, ročník: 36, vydání: 8
-
Influence of the atomic force microscope tip on the multifractal analysis of rough surfaces
Ultramicroscopy, rok: 2004, ročník: 102, vydání: 1
2003
-
Aplikace mikroskopie atomové síly při analýze tenkých vrstev ZnSe a ZnTe
Československý časopis pro fyziku, rok: 2003, ročník: 53, vydání: 2
-
Atomic force microscopy characterization of ZnTe epitaxial thin films
Japanese Journal of Applied Physics, rok: 2003, ročník: 42, vydání: 7B
-
Characterization of thin films non-uniform in optical parameters by spectroscopic digital reflectometry
Proceedings of SPIE, rok: 2003, ročník: 5182, vydání: 2
-
New Method for the Complete Optical Analysis of Thin Films Nonuniform in Optical Parameters
Japanese Journal of Applied Physics, rok: 2003, ročník: 42, vydání: 7B