Informace o projektu
Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
- Kód projektu
- GP202/08/P038
- Období řešení
- 1/2008 - 12/2010
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Postdoktorské projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
- Klíčová slova
- magnetronové naprašování, hybridní PVD-PECVD, hysterezní chování, příprava tenkých vrstev, nanokompozit, BCN
Tento projekt je zaměřen na studium chování hybridního PVD-PECVD procesu, který bude využit pro přípravu nanokompozitních n-Ti:C/a-C:H a a-BCN:H materiálů. Jako zdroj uhlíku pro přípravu tenkých vrstev bude použit některý z plynných uhlovodíků dodávaný přímo do depozičního reaktoru, který zcela nahradí tradiční rozprašování uhlíkového terče. Hysterezní chování tohoto depozičního procesu a vlastnosti jím připravených vrstev budou srovnány s PVD procesem. Bude provedena srovnávací studie pro různé druhy uhlovodíků. Na základě provedených experimentů bude vylepšen stávající model reaktivního magnetronového naprašování. Tento model bude pracovat s nerovnoměrným tvarem hustoty výbojového proudu a bude rozšířen o interakci plynného uhlovodíku s povrchem magnetronové katody a stěnami depozičního reaktoru.
Publikace
Počet publikací: 37
2009
-
Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process
Book of Contributed Papers of 17th Symposium on Applications of Plasma Processes, rok: 2009
-
Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process
Rok: 2009, druh: Konferenční abstrakty
-
Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics
Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8, rok: 2009
-
Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?
Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts, rok: 2009
-
Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously
Rok: 2009, druh: Konferenční abstrakty
-
Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen
Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8, rok: 2009
-
Modelling of the reactive sputtering process with non-uniform discharge current density and different temperature conditions
Plasma Sources Science and Technology, rok: 2009, ročník: 18, vydání: 2
-
Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously
Rok: 2009, druh: Konferenční abstrakty
-
Suppressed hysteresis behaviour of titanium sputtering in acetylene gas.
Rok: 2009, druh: Konferenční abstrakty
2008
-
Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density
Chemické Listy, rok: 2008, ročník: 102, vydání: 1